如果單純從沾角度講，通過掩模垂直透，應該很容易能達到效果。”

透過縫隙垂直照，縫隙，面張紙就裡亮，這基本過常識。

陸定遠雖然麼科研員，但初物理課也算學霸，覺得之黎說精度能還夠，這句話些違背物理常識。

疑惑，便回來直接問黎。

黎倒也沒隐瞞。

，抽過陸定遠裡電筒，把另隻圈成ok狀，用電筒垂直直射指圈成圈，之後對陸定遠朝微微擡擡巴。

電筒透過黎指圈成圈，并沒照亮黎指圈樣圈，而照亮很片昏黃燈。

黎：“理論确實，但物理書許理論都刨除切界因素，最單純原理。

實際，具波動性，通過孔、縫，遇到細微障礙物時産衍射，或者叫繞射，使偏離原本直線傳播，照到應該照到方。

源波長相比縫越，衍射先向越。

用氘燈矽片刻納米扣子，結果東範圍納米寬，精度自然就會所。

将膜擡起距離并，隻希望這種衍射寬度并太，勉強以制造芯片吧。

這樣用些掩膜，也能省些錢，具體還得試驗。”

掩膜刻膠距離越，精度就越好，也越容易沾。

掩模刻膠距離越遠，精度就越好，但沾。

這種兩難全改造方案。

隻希望距離遠，誤差點，這樣也以勉強先用着，至制造超級計算機時候，成本會許。

窮！

黎這個配着實驗例子舉過于貼切，且簡單易懂，陸定遠聽就聽。

但也聽來，黎對今改動以徹底解決刻機問題并好。

，提議：“柳師長商量，能能給秘密配備套制作幾枚芯片材料，讓以調刻機後進實驗。

否則每改裝完，由其科研員試驗，還接着來改裝，太累，需好好休息。”

如果回兩回就能修好，陸定遠也就說麼。