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《大國院士》第887章 第876章 S級項目!(第1頁)

半個時間并長,徐川通過掃描電子顯微鏡觀察着這塊岩材料時候,實驗,另檢測也順利完成

分辨率場發射掃描電子顯微鏡對檢測結果已經繪制成數據表圖片。

連接打印機圖像打印設備,負責進實驗王杭迅速将相關數據圖表打印來。

徐院士,趙所,場發射掃描電子顯微鏡分析結果已經

從對方接過實驗數據,徐川迅速翻閱起來。

相對比常規掃描電子顯微鏡來說,超分辨率場發射掃描電子顯微鏡雖然耗費時間長很

也會

尤其研究院設備都采用最數字化圖像處理技術,提供倍數、分辨掃描圖像設備,價值同時也能帶來更對材料本觀測。

對瑤池環形掃描,從來說,普通電子顯微鏡觀測到況差

但細節方面卻别。

比如普通掃描電鏡SED圖以直觀顯示碳納米管粗細,以及碳納米管之間交織狀态。

場發射掃描電子顯微鏡STEM圖到隐藏D結構顆粒結構。

這些顆粒結構傳統掃描電子顯微鏡實驗無法

,場發射掃描電子顯微鏡還獨特場像BF,場像DF,以及角度環形場像HAADF模式等等。

這些圖像具成像優勢,以根據樣品況搭配使用,成像結果進互相驗證。

這塊瑤池環形角度環形場像HAADF,徐川就發現些特别方。

,HAADF成像這些碳納米管次電子軌迹強度對比場成像區别。

嘴裡句,張圖紙帶着些許彩。

放到X倍圖像,規則碳納米管呈現亮度區别。

HAADF成像能量反應成分襯度、形貌襯度這些數據都變化。

旁,趙貴微蹙着眉頭,開:這應該,HAADF成像與BF、DF成像理論來說現如此襯度能量反應差。

雖然說種成像方式各差别,形成圖像也會着差别,但能量襯度會差距這麼,很罕見。

徐川笑笑,:沒,如果說這些碳納米管與底層襯底形成摻雜,産類似于集成芯片半導體門結構,這些差異以說得通

聞言,趙臉驚詫過來,忍詢問:您說這些試樣表面若電位分布差異,比如類似半導體P-N結、加偏壓集成電等機構,其局部電位差異響到次電子軌迹強度。

徐川點點頭,:嗯,目來說這個猜測最能解釋這種能量與襯度差距。

嘶~

貴倒吸涼氣,驚訝:如果這樣,這極碳納米管集成闆?

盯着實驗數據報告文件,徐川忖着開否認這種能性,然碳納米管集成電能性來還

嗯?

聞言,趙實驗兩名研究員都投來詫異疑惑

按照HAADF成像數據來,這非常電位襯度差距,而般來說這種差異通常隻會半導體

因為半導體具局部電位差,正電位區域,次電子好像被拉易逸,因此這些區域,次電子産額較,圖像顯得較

相反,負電位區域,次電子易被推,産額較圖像顯得較亮,這就電位襯度。

般來說,剖析其半導體設備,比如芯片,就通過電位襯度來研究

(這枚芯片電鏡結構圖,以清楚到裡面區别)

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